1. 本选题研究的目的及意义
透明导电氧化物(TCO)薄膜材料在可见光范围内具有高透光性和导电性，在低辐射玻璃、平板显示器、太阳能电池、触摸屏等领域展现出巨大的应用潜力，是现代信息产业不可或缺的关键材料。
近年来，随着应用领域的不断扩展，对TCO薄膜材料的性能要求也越来越高，探索新型高性能TCO材料成为了材料科学领域的研究热点。
氧化锌(ZnO)作为一种宽禁带半导体材料，具有禁带宽度大(3.37eV)、激子束缚能高(60meV)、化学稳定性好、原料丰富、成本低廉等优点，在TCO领域备受关注。
2. 本选题国内外研究状况综述
近年来，国内外学者对Sn-Al共掺杂ZnO薄膜进行了广泛的研究，在制备方法、性能调控、机理分析等方面取得了一系列重要进展。
1. 国内研究现状
国内学者在Sn-Al共掺杂ZnO薄膜的制备方法和性能研究方面取得了一些进展。
3. 本选题研究的主要内容及写作提纲
本选题研究的主要内容包括：
1.Sn-Al共掺杂ZnO薄膜的制备：采用磁控溅射法在玻璃衬底上制备Sn-Al共掺杂ZnO薄膜，探讨不同Sn-Al掺杂比例、溅射功率、衬底温度、溅射时间等工艺参数对薄膜结构和性能的影响规律。
2.Sn-Al共掺杂ZnO薄膜的结构表征：利用X射线衍射仪(XRD)、扫描电子显微镜(SEM)、透射电子显微镜(TEM)等手段对薄膜的晶体结构、表面形貌、微观结构进行表征。
3.Sn-Al共掺杂ZnO薄膜的光电性能测试：采用紫外-可见分光光度计(UV-Vis)、四探针测试仪、霍尔效应测试仪等对薄膜的光学性能(透光率、吸收率等)和电学性能(电阻率、载流子浓度、迁移率等)进行测试，并分析Sn-Al共掺杂对ZnO薄膜光电性能的影响机制。
4. 研究的方法与步骤
本研究将采用以下方法和步骤进行：
1.实验准备：准备实验所需的材料，包括ZnO靶材、Sn靶材、Al靶材、玻璃衬底等。
清洗玻璃衬底，确保其表面洁净。
调试磁控溅射设备，设定好实验所需的各项参数。
5. 研究的创新点
本研究的创新点在于：
1.系统研究Sn-Al共掺杂比例、制备工艺参数对ZnO薄膜结构和性能的影响规律，为制备高性能Sn-Al共掺杂ZnO薄膜提供理论依据。
2.深入分析Sn-Al共掺杂对ZnO薄膜光电性能的改性机理，揭示Sn-Al共掺杂与ZnO薄膜性能之间的构效关系。
3.探索Sn-Al共掺杂ZnO薄膜在太阳能电池、气敏传感器等领域的应用潜力，拓展其应用范围。
6. 计划与进度安排
第一阶段 （2024.12~2024.1）确认选题，了解毕业论文的相关步骤。
第二阶段（2024.1~2024.2）查询阅读相关文献，列出提纲
第三阶段（2024.2~2024.3）查询资料，学习相关论文
7. 参考文献（20个中文5个英文）
[1] 肖汉宁,刘艳,王文凯,等. 掺杂ZnO薄膜的研究进展[J]. 材料导报,2018,32(13):2201-2207.
[2] 张丽娟,张富春,刘艳玲,等. ZnO基透明导电薄膜的现状及发展趋势[J]. 功能材料,2017,48(8):8048-8054.
[3] 王艳,王成伟,王世敏. ZnO薄膜的制备及光电性能研究[J]. 功能材料,2020,51(2):2062-2068.
